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光伏产业的迅速发展解除了传统发电技术的弊端，减少了空气污染，保护了环境.但是在多晶硅片生产过程中，会产生粉尘、固体废弃物、酸碱废液、烟气等有害污染物.在清洗和制绒硅片的过程中，会用到具有腐蚀性的HF

废水情况

1.1 废水来源

企业的含氟废水主要来源于电池车间，电池车间的工艺为：制绒→扩散→湿法刻蚀→喷涂减反射膜→印刷烧结。其中硅片制绒和刻蚀两个工序产生废水，包括废酸液(硝酸+氢氟酸、氢氟酸+盐酸或氢氟酸)、废碱液(氢氧化钾)、酸清洗水和碱清洗水。

其中废酸液和废碱液水量较小，为间歇排放，酸清洗水和碱清洗水水量较大，水质水量相对稳定。由于废酸液水量较小，水质和水量波动较大，且腐蚀性很强，因此不考虑此部分废水的回用，将此种废水从生产设备上接出独立管道流入除氟设施处理，将酸清洗水、碱清洗水和废碱液作为回用处理的原水。

1.2 除氟设施流程

含氟废水经处理后，其出水可达到《污水综合排放标准》(GB 8978—1996)三级标准。

除氟处理设施主要是通过加入石灰、氯化钙和絮凝剂，使废水中的氟化物与石灰和氯化钙中的钙离子生成氟化钙沉淀，以达到去除废水中氟化物的目的。

在除氟处理过程中加入了石灰、絮凝剂等工业药剂，造成废水处理后COD、电导率和硬度较处理前更高，处理后的水质更为复杂，且加入过量的钙离子对反渗透膜有较大的堵塞隐患。

回用工艺设计

针对含氟废水水质特点，将准备回用处理的含氟废水处理后回用到纯水站代替新鲜水制备纯水供应到生产中，回用处理系统浓水排到原有除氟处理设施处理达标后排放。回用水质需满足《城市污水再生利用工业用水水质》(GB/T 19923—2005)中工艺与产品用水的水质标准要求。